分子篩乾燥機:壓力露點 < -73℃ 濾除0.01micron雜質@效率達99.99% 末段含水汽指示過濾器 中空膜乾燥機:壓力露點 < -40℃ 無需電源,適用防爆及危險場合 無轉動元件,操作安靜 適用:核磁共振光譜儀、原子吸收光譜儀、電子顯微鏡、熱分析儀、光罩對準曝光機、溶劑蒸餾器
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